新川電機はこのたび、多くのメーカー様にご協力いただき「次世代分析技術フォーラム2025」を開催します！
3日間にわたり最新の分析技術と製品動向をご紹介します。せひご参加ください！！

DAY 1
分析における自動化技術や各メーカー注目機器の最新情報をお届けします。

DAY 2
各メーカーによる分析を行う環境に関する機器の紹介とともに、名古屋大学 安全科学教育研究センター　山本忍先生をお招きして「職場における自律的な化学物質管理」をご講演いただきます。化学物質管理規制について、最新の改正情報を含めた概要を解説していただきます。

DAY 3
アジレント・テクノロジー社の様々な最新情報を一挙にお届けいたします。また、フロンティア・ラボ社から熱分解GC/MSの最新分析情報をお届けします。

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開催概要

開催日時 2025年10月1日(水) ～ 3日(金) 9:30～17:00 ※最終日のみ16:30まで
配信 Microsoft Teams タウンホール
主催 新川電機株式会社
参加費用 無料
注意事項
  • 同業他社さまにはご参加をご遠慮頂いております。
    申し訳ございませんが、ご理解のほど宜しくお願いいたします。
  • お申し込みいただいた方全員に全セミナー視聴可能なURLをご案内いたします。
    一部セミナーのみのご視聴をご希望の場合は、希望するセミナーの開始時間に合わせて視聴URLへアクセスください。
  • 終了時刻は多少時間が前後する場合がございます。あらかじめご了承ください。

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プログラム

【DAY 1】　 【DAY 2】　 【DAY 3】

DAY 1

時間 タイトル / 内容
9:30～10:30 分析前処理からR&D実験の自動化までを実現するソリューションのご紹介
近年多くの分野で自動化が推進され様々な装置が紹介されています。今回「LCやGC等の分析サンプル調製の小規模な自動化から合成～製品評価まで行う大規模な自動化まで」をテーマに研究における自動化のための装置をご紹介させていただきます。
講師 : エーエムアール株式会社　山田 佳代子 様
11:00～12:00 分析前処理の自動化で人手不足の課題解決へ
～HPLCやICPの希釈、ろ過、濃縮等の工程自動化からアームロボットによる拡張まで～
昨今、市場動向の変化に伴い、研究現場でもワークスタイルの変革が求められています。今回はHPLCやGC、ICPなどの分析装置をご活用の研究者様に「煩雑な前処理工程の自動化」についてご紹介します。
講師 : エムエス機器株式会社　西田 卓史 様
13:00～14:00 新機能を搭載したFE-SEM(SU8600/8700)による多様な材料評価とオートメーション技術のご紹介
従来の極低加速観察に加えてSEバンドパス機能や全固体電池用ホルダーによる材料評価、および機能を向上させた自動化支援ソフトEMフロークリエータについての最新情報をご紹介します。
講師 : 株式会社日立ハイテク　藤安 隼也 様
14:15～14:35 Wileyが提供する世界最大級GC/MSスペクトルデータベースのご紹介
世界最大級のデータベースが解析作業を効率化。一般的なNISTデータベースの約２倍の収録数を誇るWiley Registryをはじめ、香料、薬物など専門データベースなどもご紹介いたします。
講師 : ワイリー・パブリッシング・ジャパン株式会社　兼城 昌敏 様
14:45～15:45 X線CTによる内部構造非破壊評価の最前線
X線CTは試料の内部構造を非破壊で3次元観察できます。本セミナーではX線CTの基本的な原理を紹介し、リガクX線CTを用いた各種試料の最新評価事例をご紹介します。
講師 : 株式会社リガク　佐藤 純一 様
16:00～17:00 ハイスループットのイメージング装置
高速・高精度の次世代AFM/ラマン顕微鏡のご紹介
近年あらゆる分野で測定対象物のサイズが小さくなり、イメージングによる形状や分布の可視化のニーズが高まっています。本講演では従来に比べ飛躍的に高速・高精度化した最新のAFM/ラマン顕微鏡をご紹介します。
講師 : オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社　山田 崇文 様

DAY 2

基 調 講 演　9:30～11:00

職場における自律的な化学物質管理
－最新の法令改正も含めた化学物質管理規制の概要－

2022年に労働安全衛生規則等が改正され、日本においても「自律的な化学物質管理」が導入されました。2023年以降順次施行され、今後も「自律的な化学物質管理」を最適化するために追加の関係法令の改正が行われる予定です。この法令改正の中心となるのは、リスクアセスメントを基軸とした化学物質管理で、化学物質のリスクアセスメントを実施し、作業者のばく露を濃度基準値以下、あるいは最小限度にしなさいというものです。改正された法令は多岐にわたり、全てを理解するには一筋縄ではいきません。本セミナーでは、事業所の安全衛生管理の一助となることを念頭に、最新の改正情報も含め化学物質管理規制の概要を解説します。

名古屋⼤学 安全科学教育研究センター　山本 忍 先生

時間 タイトル / 内容
11:15～11:45 SDSモニター　製品＆使い方解説モニター
煩雑な管理になりがちな安全データシート(SDS)を、作業場の液晶ディスプレイやタブレット上に掲示し、タッチ操作で簡単に閲覧できるデジタルサイネージシステムです。
講師 : ノリタケ伊勢株式会社　増川 久美子 様
13:00～14:00 【ラボの自動化最前線】Agilent Infinity III LC による信頼性の高いデータ取得とDXのためのソフトウェアソリューション
装置間連携による省力化やエラー削減に貢献する、HPLCのインジェクタプログラム機能による自動前処理、バーコードリーダーを活用した自動化、データインテグリティのためのソフトウェアソリューションをご紹介します。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　外山 大純 様、内藤 厚子 様
14:30～15:30 異物問題に一石を投じます！オープンクリーンシステム　KOACH　～対策の実演・最適なデバイスの紹介～
異物問題は、９割以上が“ある工程”で起こると言われています。半導体、電子、化学、食品、樹脂、素材、自動車等・・・様々な業界の異物問題を解決した担当者が実演を行い、最適なデバイスを紹介します。
講師 : 興研株式会社　有馬 和秀 様
16:00～17:00 純水および超純水の基礎
純水および超純水に関する基本的な知識から、その製造原理、水質管理のポイント、そして実際の取り扱い注意点までを網羅的にご説明いたします。純水・超純水をより深く理解し、適切に活用するための基礎を紹介いたします。
講師 : オルガノ株式会社　髙橋 卓馬 様

DAY 3

時間 タイトル / 内容
9:30～10:00 測り方改革、働き方改革　-分析業界のDXのご提案-
あらゆる業界で「DX化」が注目されている昨今、新川電機はお客様が求めるDX化に向けて、現状把握から課題を明確にし、お客様とともに取り組み、お客様のやりたいことの実現をお手伝いいたします！
講師 : 新川電機株式会社　伊藤 弘明 氏
10:30～11:00 【基礎 × LC・GC】液クロ＆ガスクロの分離基礎と分析ワークフローの自動化・省力化の最新事例
LC・GCの分離基礎から前処理の便利機能、解析・レポート作成まで、省力化・自動化のポイントをラボの課題解決に向けてご紹介いたします。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　宮下 未羽 様
11:30～12:00 【食品・環境×GC/MS】GC/MSデータ解析の効率化・完全性の最新トレンド
食品や環境分析においても近年ではデータのデータインテグリティ（DI）なども要求されています。この GC/MS データの解析の効率化・自動化を含めた最新テクニックをご紹介いたします。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　中村 貞夫 様
13:00～14:00 熱分解GC/MSを用いたポリマー材料分析の基礎からマイクロプラスチック分析などへの応用まで
熱分解GC/MSはポリマー材料やそれらに含まれる添加剤の分析に有効な手法である。その基礎と不良品解析、添加剤分析の事例や、マイクロプラスチック分析などへの応用例を紹介する。
講師 : フロンティア・ラボ株式会社　安達 甲志 様
14:30～15:00 【材料×GC/MS, LC/MS, FTIR, ICP】材料分析の最前線：無機、有機、高分子を網羅する包括的アプローチ
クロマトグラフィー、質量分析法（GC/MS、LC/MS）、分光法を駆使した材料分析技術をご紹介いたします。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　穂坂 明彦 様
15:15～15:45 【自動化×ICP】自動化が変える分析化学の世界：ICP-OES・ICP-MS用自動希釈装置ADS2の実際と最新の分析事例
ICP-OESおよびICP-MS用の自動希釈装置ADS2の革新的な機能と特長を紹介します。ADS2の可能性と限界を明確にし、実際のアプリケーション例を通じて実運用に役立つ情報を提供します。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　橋本 文寿 様
16:00～16:30 【半導体材料×ICP-MS】金属マトリクス試料中のpptオーダーのNa, Kの定量分析
ホットプラズマ条件における Na、K のバックグラウンドを飛躍的に低減するイオンレンズを紹介します。半導体分野における金属マトリクス試料中の ppt オーダーの Na、K 分析のソリューションを提供します。
講師 : アジレント・テクノロジー株式会社　島村 佳典 様

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